計(jì)算機(jī)及相關(guān)的外圍產(chǎn)品逐漸微小化的趨勢(shì)下﹐作為內(nèi)存儲(chǔ)存的磁性材料 研究﹐也逐漸走向高密度的方向。然而﹐由于密度的提高﹐在單位體積/面積上所需要進(jìn)行資料位儲(chǔ)存的磁場(chǎng)﹐也隨之提高。而因?yàn)楦叽艌?chǎng)的產(chǎn)生有技術(shù)上的困難﹐使得高密度磁性材料的應(yīng)用﹐面臨了限制與瓶頸。   
       近日，日本東北大學(xué)大野實(shí)驗(yàn)室(注)的Daichi Chiba﹐發(fā)表了利用施加電場(chǎng)磁性材料廠 ﹐可以降低存取資料所需磁場(chǎng)大小的研究結(jié)果。這項(xiàng)研究發(fā)現(xiàn)鐵氧體生產(chǎn)廠家 ﹐透過(guò)施加電場(chǎng)在磁性記憶儲(chǔ)存材料﹐可以降低寫(xiě)入資料時(shí)需要施加的磁場(chǎng)，有可能被應(yīng)用在制造超高密度的內(nèi)存上。
       Daichi等人的實(shí)驗(yàn)是先在攙有錳(Mn)金屬而具鐵磁性的砷化銦(InAs) 上﹐鐵氧體方塊 鍍上一薄層絕緣體與金屬電極﹐然后再通過(guò)電極對(duì)砷化銦施加電場(chǎng)。當(dāng)施加1.5MV/cm的電場(chǎng)時(shí)﹐所需要改變磁矩極性(進(jìn)行資料寫(xiě)入)的磁場(chǎng)大小﹐是未加電場(chǎng)時(shí)的五分之一。這個(gè)發(fā)現(xiàn)﹐使得高密度磁性材料的研究﹐又出現(xiàn)了一線希望。切割磁鐵 不過(guò)﹐計(jì)劃主持人Hideo Ohno表示﹐由于他們的實(shí)驗(yàn)是在絕對(duì)溫度30K的低溫下進(jìn)行﹐其發(fā)現(xiàn)僅能算是初步證實(shí)施加電場(chǎng)的可行性。如果要談到實(shí)際應(yīng)用方面﹐切割方塊 還得以在室溫下進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)來(lái)驗(yàn)證。